Training STM mode - Mai & 文斌
* 掃出graphite之step
parameter:
Scan Offset X: 1715 nm
Scan Offset Y: 1572 nm
Scan Rotation: 90 deg
Scan Speed: 150 nm/s
Slope Compensation: on
Slope Compensation X: 0 %
Slope Compensation Y: -15 %
DAC 1: 0.1001 V
Positioning Speed X: 1000 nm/s
Positioning Speed Y: 1000 nm/s
ADC1 Ext. Transfer Fct Gain: 10
ADC1 Ext. Transfer Fct Offset: 68.46 mV
ADC1 Ext. Transfer Fct Unit: nA
光電科技專題中心目前設在交通大學,以便和新竹、中壢地區之研究單位(包括:交通大學、清華大學、中央大學、國家奈米元件實驗室(NDL) 、工研院(ITRI)等機構)的光電與材料相關計畫及台灣半導體產業界,建立密切的合作關係。目前的研究重點專注在先進固態元件:包括單電子電晶體(SETs)、單光子產生器(SPGs)、量子點(QD)/ 量子線(QWR)雷射及偵測器、奈米光子晶體元件、固態照明、以及量子資訊等。未來計畫其發展方向將包括高速奈米光電元件、奈米材料、以及超高密度儲存裝置等。
2011年3月31日 星期四
20110329實驗室日誌
training STM mode - Mai
* change the new tip (0.5mm)
* making a new surface of graphite
* check the cables
* approach
* scanner
* 以鋁箔紙包覆保麗龍並將系統包覆以隔絕環境並加以屏蔽:
雜訊從4pA ~ -4pA 改善為2pA~ -2pA,低頻由400減低為300
* change the new tip (0.5mm)
* making a new surface of graphite
* check the cables
* approach
* scanner
* 以鋁箔紙包覆保麗龍並將系統包覆以隔絕環境並加以屏蔽:
雜訊從4pA ~ -4pA 改善為2pA~ -2pA,低頻由400減低為300
20110328實驗室日誌
P=3.3E-4
*將insert抽真空並放入cryostat以隔絕環境,testing STM mod。
狀況: approach 並達到電流穿隧後,scanner呈現不穩定的情況。
(每當scanner上升並達到穿隧時,scanner則呈現下降些許距離並再次持續上升,此情況反覆出現,由於scanner不穩定所以無法掃描,研判可能因為環境噪音的影響。)
*將scanner退後500步,並破真空,再次執行相同步驟但是依然呈現不穩定的情況。
*將insert抽真空並放入cryostat以隔絕環境,testing STM mod。
狀況: approach 並達到電流穿隧後,scanner呈現不穩定的情況。
(每當scanner上升並達到穿隧時,scanner則呈現下降些許距離並再次持續上升,此情況反覆出現,由於scanner不穩定所以無法掃描,研判可能因為環境噪音的影響。)
*將scanner退後500步,並破真空,再次執行相同步驟但是依然呈現不穩定的情況。
20110325實驗室日誌
training STM mode - Mai
*掃出標準試片graphite的step,但是周圍環境影響,所以雜訊較大
parameter :
Scan Range X: 1002 nm
Scan Range Y: 1002 nm
Scan Rotation: 0 deg
Sample Time: 2.564e+04 us
Scan Speed: 150 nm/s
Slope Compensation: on
Slope Compensation X: 7 %
Slope Compensation Y: 0 %
DAC 1: 0.3 V
Positioning Speed X: 1000 nm/s
Positioning Speed Y: 1000 nm/s
*掃出標準試片graphite的step,但是周圍環境影響,所以雜訊較大
parameter :
Scan Range X: 1002 nm
Scan Range Y: 1002 nm
Scan Rotation: 0 deg
Sample Time: 2.564e+04 us
Scan Speed: 150 nm/s
Slope Compensation: on
Slope Compensation X: 7 %
Slope Compensation Y: 0 %
DAC 1: 0.3 V
Positioning Speed X: 1000 nm/s
Positioning Speed Y: 1000 nm/s
20110324實驗室日誌
training AFM mode - Mai
parameter:
Scan Range X: 3.3e+04 nm
Scan Range Y: 3.3e+04 nm
Scan Rotation: 0 deg
Scan Speed: 4000 nm/s
Slope Compensation: on
Slope Compensation X: 4 %
Slope Compensation Y: 0 %
Positioning Speed X: 5000 nm/s
Positioning Speed Y: 5000 nm/s
parameter:
Scan Range X: 3.3e+04 nm
Scan Range Y: 3.3e+04 nm
Scan Rotation: 0 deg
Scan Speed: 4000 nm/s
Slope Compensation: on
Slope Compensation X: 4 %
Slope Compensation Y: 0 %
Positioning Speed X: 5000 nm/s
Positioning Speed Y: 5000 nm/s
20110323實驗室日誌
replace the new scanner
testing the Z scanner :
* Z scanner 可承受最大偏壓為60V
new scanner 電容值:
X - 0.68 mf
Y - 0.71 mf
Z - 2.89 mf
* Training - Mai
* AFM contact mode
parameter:
Scan Range X: 3.5e+04 nm
Scan Range Y: 3.5e+04 nm
Scan Rotation: 90 deg
Scan Speed: 4083 nm/s
Feedback Loop: on
Actual Value Select: ADC1
Regulator P: 0.002
Regulator I: 2 Hz
Regulator Setpoint: 2.8
Slope Compensation: on
Slope Compensation X: 5 %
Slope Compensation Y: -3 %
testing the Z scanner :
* Z scanner 可承受最大偏壓為60V
new scanner 電容值:
X - 0.68 mf
Y - 0.71 mf
Z - 2.89 mf
* Training - Mai
* AFM contact mode
parameter:
Scan Range X: 3.5e+04 nm
Scan Range Y: 3.5e+04 nm
Scan Rotation: 90 deg
Scan Speed: 4083 nm/s
Feedback Loop: on
Actual Value Select: ADC1
Regulator P: 0.002
Regulator I: 2 Hz
Regulator Setpoint: 2.8
Slope Compensation: on
Slope Compensation X: 5 %
Slope Compensation Y: -3 %
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